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紫外線曝光機

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更新日期:2024-03-19

簡要描述:

日本tsubosaka紫外線曝光機UVL-2
光刻工藝中的簡單曝光印刷設備
臺式和一體式,節(jié)省空間
通過安裝微型計算機來精確控制照射時間

紫外線曝光機

日本tsubosaka紫外線曝光機UVL-2

  • 光刻工藝中的簡單曝光印刷設備
  • 臺式和一體式,節(jié)省空間
  • 通過安裝微型計算機來精確控制照射時間

日本tsubosaka紫外線曝光機UVL-2

規(guī)格

模型UVL-2
光源超高壓汞燈
強度[mW /?]20
光通量100 x 100(有效的80 x 80)
照度不均勻度[±%]8
曝光時間0.5 --99.9
樣品架固定型帶平面微調(diào)機構
樣品尺寸[mm x mm]100 x 100
尺寸[mm x mm]70 x 70
樣品固定塞子鄰接方法
通訊接口RS-232C
電源電壓AC100V 50/60赫茲
消耗功率[VA]700
操作環(huán)境?溫度:5-35 [℃]
?濕度:80 [%]以下但是,不得結露。
尺寸(寬x高x深)[mm]350 x 790 x 350
 

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